半导体光刻机（超精密定位）

应用场景：ASML EUV光刻机晶圆台驱动

滚珠丝杠作用：控制晶圆台的纳米级移动，确保曝光精度。

技术参数：

• 直径：16mm，导程：2mm（微导程设计）

• 精度等级：C0级（定位精度±0.001mm）

• 温控要求：±0.1℃内（减少热变形）

优势：超高精度、抗振设计，匹配激光干涉仪闭环反馈系统。